真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前，先從工件或系統材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會(huì )使真空系統不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會(huì )影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一．真空加熱清洗

    將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(cháng)短、加熱溫度、污染物的類(lèi)型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì )產(chǎn)生副作用。由于加熱的結果，可能發(fā)生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時(shí)分解成碳渣.

二．紫外線(xiàn)輻照清洗

利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線(xiàn)源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線(xiàn)照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加．

三．放電清洗

這種清洗方法在高真空，超高真空系統的清洗除氣中應用的非常廣泛．尤其是在真空鍍膜設備中用的最多。利用熱絲或電極作為電子源．在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實(shí)現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除．清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系．即取決于單位表面積上的離子數和離子能量．從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)．可以利用兩個(gè)適當的電極間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來(lái)達到清洗的目的。該方法中．惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片，它可以使某些真空系統免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。一般情況下，其中的碳不能單獨揮發(fā)．經(jīng)化學(xué)清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進(jìn)行輝光放電清洗，使表面上的雜質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到清除．在輝光放電清洗中．最重要的參數是外加電壓的類(lèi)型(交流或直流），放電電壓大小、電流密度、充入氣體種類(lèi)和壓力．轟擊的持續時(shí)間．電極的形狀以及待清洗的部件的材料和位置等．

四.氣體沖洗

1.氮氣沖洗

氮氣在材料表面吸附時(shí)，由于吸附能小，因而吸留表面時(shí)間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質(zhì)沖洗真空系統，可以大大縮短系統的抽氣時(shí)間。如真空鍍膜機在放入大氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入大氣，則下一抽氣循環(huán)的抽氣時(shí)間可縮短近一半，其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿(mǎn)了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時(shí)間縮短了。如果系統被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來(lái)清洗被污染的系統.一般是一邊對系統進(jìn)行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統，可將油污染消除。

2. 反應氣體沖洗

這種方法特別適用于大型超高不銹鋼真空系統的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些大型超高真空系統的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統安裝前及裝配期間。在真空系統安裝后(或系統運行后)，由于真空系統內的各種零部件已經(jīng)被固定，這時(shí)對它們進(jìn)行除氣處理就很困難，一旦系統受到(偶然)污染(主要是大原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進(jìn)行原位在線(xiàn)除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進(jìn)行化學(xué)反應清洗，消除污染，以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì)，表面反應速率的大小通過(guò)調整反應氣體的壓力和溫度來(lái)控制。對于每一種基材而言，精確的參數要通過(guò)實(shí)驗來(lái)確定.對于不同的結晶取向，這些參數是不同的．

真空鍍膜機清洗的工藝要求

真空工藝進(jìn)行前應清洗真空材料，從工件或系統材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會(huì )使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時(shí)也會(huì )影響真空部件連接處的強度和密封性能。

污染物可以定義為“任何一種無(wú)用的物質(zhì)或能量”，根據污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學(xué)特征來(lái)看，它可以處于離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，可以是無(wú)機物或有機物。

暴露在空氣中的表面最易受到污染，污染的來(lái)源有很多種，最初的污染通常是表面本身形成過(guò)程中的一部分。吸附現象、化學(xué)反應、浸析和干燥過(guò)程、機械處理以及擴散和離析過(guò)程都使各種成分的表面污染物增加。

真空鍍膜加工廠(chǎng)表示，比較常見(jiàn)的真空材料表面上的污染物具體有以下幾種類(lèi)型：
1、油脂：加工、裝配、操作時(shí)沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等；
2、酸、堿、鹽類(lèi)物質(zhì)：清洗時(shí)的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等；
3、表面氧化物：材料長(cháng)期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物；
4、水基類(lèi)：操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水汽、唾液等；
5、拋光殘渣及環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機物等。

清洗這些污染物的目的是為了改進(jìn)真空鍍膜機的工作穩定性，使工作能夠更加順利的進(jìn)行。清洗后的表面根據要求分為原子級清潔表面和工藝技術(shù)上的清潔表面兩類(lèi)?！?/span>

在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜前，對鍍膜材料做簡(jiǎn)單的表面清潔可以延長(cháng)鍍膜機的使用壽命。因為各種污染物不僅使真空系統不能獲得所要求的真空度，還會(huì )影響真空部件連接處的強度和密封性能。前期到位的清洗工作可以減少許多麻煩，避免許多小問(wèn)題的發(fā)生，對工作效率、真空鍍膜機鍍膜質(zhì)量都具有十分積極的作用?？纱蟠筇岣哒婵障到y中所有器壁和其它組件表面在各工作條件下的工作穩定性?！?/span>